一、镀铝热转印——真空镀铝
镀铝热转印中的真空镀铝工艺能够在普通热转印工艺的基础上,再搭配镀铝工艺,为普通的热转印膜镀上金属光泽,使原本普通的转印图案看起来有金属感,这就是镀铝热转印膜所呈现出工艺效果。
二、镀铝热转印----真空镀铝工艺
下面,我们来具体了解镀铝热转印技术中的真空镀铝工艺。
1、镀铝热转印真空镀铝工艺概述
镀铝热转印中的真空镀铝工艺是在高真空(10-4mba以上)条件下,以电阻、高频或电子束加热使金属熔融气化,在薄膜基材的表面附着而形成复合薄膜的一种工艺。是一种真空蒸镀的工艺。
2、镀铝热转印真空镀铝——选材
由于镀铝热转印(真空镀铝工艺)的特殊性,它对被镀薄膜基材有以下几点要求:
1)耐热性好,基材必须能耐受蒸发源的辐射热和蒸发物的冷凝潜热。
2)从薄膜基材上产生的挥发性物质要少;对吸湿性大的基材,在蒸镀前要进行干燥处理。
3)基材应具有一定的强度。
4)对蒸镀层的粘接性良好;对于PP、PE等非极性材料,蒸镀前应进行表面处理、以提高镀层的附着牢度。
Pet薄膜具有极好的光泽和附着力,是性能优良的镀铝薄膜,被大量用作热转印行业的基膜材料。
3、镀铝热转印真空镀铝流程
镀铝热转印膜的真空镀铝工艺一般采用直镀法,即将铝层直接镀在pet膜表面。
1)在镀铝前需对薄膜表面进行电晕处理或涂布粘合层,使其表面张力达到38-42达因/厘米或具有良好的粘合性。
2)镀铝时,将卷筒薄膜置放于真空室内,关闭真空室抽真空。当真空度达到一定(4×10-4mba以上)时,将蒸发舟升温至1300℃~1400℃,然后再把纯度为99.9%的铝丝连续送至蒸发舟上。
3)调节好放卷速度、收卷速度、送丝速度和蒸发量,开通冷却源,使铝丝在蒸发舟上连续地熔化、蒸发,从而在移动的薄膜表面冷却后形成一层光亮的铝层即为镀铝薄膜。
镀铝热转印膜中真空镀铝的生产工艺流程:
基材放卷→抽真空→加热蒸发舟→送铝丝→蒸镀→冷却→测厚→展平→收卷
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